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全球碳化硅产业链及竞争分析 海外头部企业占据产业链主要份额

一、碳化硅产业

碳化硅,是一种无机物,化学式为SiC,是用石英砂、石油焦(或煤焦)、木屑(生产绿色碳化硅时需要加食盐)等原料通过电阻炉高温冶炼而成。碳化硅在大自然也存在罕见的矿物,莫桑石。在C、N、B等非氧化物高技术耐火原料中,碳化硅为应用最广泛、最经济的一种,可以称为金钢砂或耐火砂。

碳化硅产业上游通过原材料制成衬底材料然后制成外延材料;中游包括SiC器件、SiC功率半导体、SiC功率模块;下游应用于5G通信、新能源汽车、光伏、半导体、轨道交通、钢铁行业、建材行业等。

碳化硅产业上游通过原材料制成衬底材料然后制成外延材料;中游包括SiC器件、SiC功率半导体、SiC功率模块;下游应用于5G通信、新能源汽车、光伏、半导体、轨道交通、钢铁行业、建材行业等。

资料来源:观研天下整理

1.SiC衬底及外延片

SiC衬底及外延片是产业核心环节。

SiC产业链中衬底制造技术壁垒最高、价值量最大,约为47%。其电学性能衬底电学性能决定了下游芯片功能与性能的优劣,是SiC大规模产业化推进的核心。根据电阻率的不同,衬底可分为低电阻率(电阻率区间为15~30mΩ·cm)的导电型SiC衬底以及具有高电阻率(电阻率≥105Ω·cm)的半绝缘型SiC衬底,分别用于功率和射频器件领域。受益于5G基建加快布局和全球地缘政治动荡,半绝缘型SiC衬底市场增长空间巨大。数据显示,2020年全球半绝缘型SiC衬底市场规模为1.8亿美元,较2019年同比增长18%。其中,6英寸需求量大于4英寸半绝缘型SiC晶片需求量,6英寸成为发展趋势,需求量将进一步增长。

SiC产业链中衬底制造技术壁垒最高、价值量最大,约为47%。其电学性能衬底电学性能决定了下游芯片功能与性能的优劣,是SiC大规模产业化推进的核心。根据电阻率的不同,衬底可分为低电阻率(电阻率区间为15~30mΩ·cm)的导电型SiC衬底以及具有高电阻率(电阻率≥105Ω·cm)的半绝缘型SiC衬底,分别用于功率和射频器件领域。受益于5G基建加快布局和全球地缘政治动荡,半绝缘型SiC衬底市场增长空间巨大。数据显示,2020年全球半绝缘型SiC衬底市场规模为1.8亿美元,较2019年同比增长18%。其中,6英寸需求量大于4英寸半绝缘型SiC晶片需求量,6英寸成为发展趋势,需求量将进一步增长。

数据来源:观研天下数据中心整理

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外延片价值量占比约23%,是指在SiC衬底上,主要使用化学气相沉积法(CVD法)在衬底表面生成所需的薄膜材料。相比衬底,外延材料厚度、掺杂浓度均匀性好、片间一致性优、缺陷率低,有效提高了下游产品的一致性和良率。

外延片价值量占比约23%,是指在SiC衬底上,主要使用化学气相沉积法(CVD法)在衬底表面生成所需的薄膜材料。相比衬底,外延材料厚度、掺杂浓度均匀性好、片间一致性优、缺陷率低,有效提高了下游产品的一致性和良率。

数据来源:观研天下数据中心整理

2.SiC器件其应用领域

半绝缘型SiC衬底用于氮化镓外延,生产射频器件,应用于5G通信等领域,在无线通讯中扮演信号转换的角色。目前射频器件主要分为砷化镓、硅基LDMOS和GaN-on-SiC等,其中GaAs器件和硅基LDMOS器件分别广泛应用于PA和小于4GHz的低频领域,半绝缘型SiC衬底制备的GaN射频器件,能够满足5G通信对于高频、高速、高功率处理能力的要求,随着5G基站建设的推进,GaN射频器件将逐渐成为主流。

半绝缘型SiC衬底用于氮化镓外延,生产射频器件,应用于5G通信等领域,在无线通讯中扮演信号转换的角色。目前射频器件主要分为砷化镓、硅基LDMOS和GaN-on-SiC等,其中GaAs器件和硅基LDMOS器件分别广泛应用于PA和小于4GHz的低频领域,半绝缘型SiC衬底制备的GaN射频器件,能够满足5G通信对于高频、高速、高功率处理能力的要求,随着5G基站建设的推进,GaN射频器件将逐渐成为主流。

数据来源:观研天下数据中心整理

导电型SiC衬底用于SiC外延,生产功率器件,应用于电动汽车和新能源领域。受下游领域的持续景气,导电型SiC衬底市场规模不断扩容。数据显示,2018年,全球导电型SiC衬底市场规模为1.7亿美元,2020年增长至2.8亿美元,复合增长率为26%。其中,6英寸导电型衬底已实现商业化,2020年全球需求超8万片,随着主流大厂正陆续推出8英寸晶圆片,4英寸产品将逐步退出市场。

导电型SiC衬底用于SiC外延,生产功率器件,应用于电动汽车和新能源领域。受下游领域的持续景气,导电型SiC衬底市场规模不断扩容。数据显示,2018年,全球导电型SiC衬底市场规模为1.7亿美元,2020年增长至2.8亿美元,复合增长率为26%。其中,6英寸导电型衬底已实现商业化,2020年全球需求超8万片,随着主流大厂正陆续推出8英寸晶圆片,4英寸产品将逐步退出市场。

数据来源:观研天下数据中心整理

碳化行业竞争

按照商业模式划分,全球SiC行业参与者可分为两类:

第一类企业同时从事衬底、外延及SiC器件的制作,覆盖多个产业链环节,如Wolfspeed。

第一类企业同时从事衬底、外延及SiC器件的制作,覆盖多个产业链环节,如Wolfspeed。

资料来源:观研天下整理

根据观研报告网发布的《中国碳化硅行业发展趋势研究与未来投资分析报告(2022-2029年)》显示,目前Wolfspeed、ST及罗姆等海外头部企业凭借布局时间较早,良率与产规模全球领先,占据产业链(从衬底到器件)的主要份额。具体来看,SiC器件与外延片市场被Wolfspeed垄断,器件领域中欧美日企业整体市占率达到95%,其中意法半导体SiC功率器件市场占有率排名第一,达到41%。

目前Wolfspeed、ST及罗姆等海外头部企业凭借布局时间较早,良率与产规模全球领先,占据产业链(从衬底到器件)的主要份额。具体来看,SiC器件与外延片市场被Wolfspeed垄断,器件领域中欧美日企业整体市占率达到95%,其中意法半导体SiC功率器件市场占有率排名第一,达到41%。

数据来源:观研天下数据中心整理

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第二类企业只聚焦SiC产业链的某一个环节,如贰陆公司。目前国内绝大多数企业为此类生产经营模式,在部分产业节点已有所突破。SiC衬底方面,天岳先进在半绝缘SiC衬底的市场占有率连续三年保持全球前三;天科合达在国内率先成功研制6英寸SiC衬底,并已实现2-6英寸SiC晶片的规模化生产和器件销售。SiC外延片方面,厦门瀚天天成与东莞天域可生产2-6英寸SiC外延片。SiC器件方面,国内厂商主要有泰科天润、瀚薪、扬杰科技、中电55所、中电13所、科能芯、中车时代电气等。模组领域,目前SiC市场斯达半导、河南森源、常州武进科华、中车时代电气处于起步阶段。总体来看,国内厂商在SiC产业链中占据的市场份额较小,可发展空间仍然较大。

我国本土SiC器件厂商发展情况

企业

是否上市

主要 SiC 器件产品

基本半导体

SBDMOSFET、全 SiC 功率模块为主

瞻芯电子

6 英寸 SiC MOSFET 晶圆为主

爱仕特科技

以汽车用及电源用的 SiC MOSFET 芯片为主

芯光润泽

SiC IPM 为主,年产能约 360 万颗

世纪金光

SBDMOSFET、全 SiC 功率模块为主

泰科天润

SiCSBD 为主

华润微

1,200V 650V SiC SBD6 英寸 MOSFET 晶圆

三安光电

SiC 器件封装二极管和 MOSFET 为主

瑞能半导体

47 SiC 不同型号的 SiC 二极管

中车时代

SiCSBD 为主

中电所55

SBDMOSFET 为主

资料来源:观研天下整理(zlj

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