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台积电CoPoS领航 面板级封装扩产拉动TGV电镀机行业刚性需求

前言:

TGV电镀机是利用电化学沉积原理将铜原子精准、无缺陷地填充,形成实心的导电“微血管”,实现芯片与基板之间、不同芯片层之间的电信号互联。这一工艺的技术难度远超传统PCB或普通晶圆级电镀——高深宽比(从5:1向30:1演进)下的均匀填孔、超薄玻璃基板的应力控制与翘曲管理、以及无空洞无缝隙的填充质量要求,构成了TGV电镀设备的核心技术壁垒。当前,全球玻璃基板先进封装产业化进程全面提速:台积电2026年6月正式发布CoPoS方案并建成试验线,规划2027年试产、2028至2029年大规模量产;英特尔已推出搭载玻璃基板的Xeon 6商用处理器;三星电机锁定2027年量产计划。与此同时,日月光、力成科技等全球主要封测厂密集建设面板级封装产线,直接拉动TGV电镀设备需求。

1、TGV电镀机被称为玻璃基板“血管”的填充者,技术难度高

TGV,即“穿过玻璃的通孔”(Through Glass Via),是在一片极薄的玻璃基板上,制造出成千上万个直径微米级、深宽比极高的垂直电互连通道。这些通孔本身是空洞,必须用金属(主要是铜)将其完全、致密地填充,才能实现芯片与基板之间、不同芯片层之间的电信号传输。

TGV电镀机的核心任务,就是利用电化学沉积原理,将铜原子精准、无缺陷地填充进这些比头发丝还细的深孔中,形成实心的导电“微血管”。TGV电镀的技术难度远超传统PCB或普通晶圆级电镀,其核心挑战源于玻璃通孔独特的几何结构:

TGV电镀机技术难度

<strong>TGV</strong><strong>电镀机</strong><strong>技术难度</strong>

资料来源:观研天下整理

2、玻璃基板先进封装产业化提速,AI算力与先进封装拉动TGV电镀机刚需

根据观研报告网发布的《中国TGV电镀机行业现状深度研究与发展前景分析报告(2026-2033年)》显示,TGV电镀机的市场需求,与玻璃基板在先进封装中的渗透率呈100%正相关。近年来,全球半导体巨头正加速推进玻璃基板的量产布局。例如,台积电于2026年6月正式发布CoPoS方案并建成试验线,规划2027年试产、2028至2029年实现大规模量产;英特尔已推出搭载玻璃基板的Xeon 6商用处理器;三星电机则将量产时间锁定在2027年。由于玻璃基板产线中设备投资占比高达70%,且激光、电镀、PVD等核心设备的国产化进展较快、已基本具备产业化配套能力,随着海内外龙头持续加码产能,国内设备厂商有望率先受益于新增产能建设与设备导入需求。

全球主要企业在玻璃基板领域的产线布局

企业名称

国别

产线布局

核心技术方向

产能与量产状态

英特尔

美国

美国亚利桑那州Chandler工厂(研发+中试线)

玻璃基板用于Chiplet异构集成,TGV通孔、高密度布线

全球最早布局,原型产品发布,预计2026-2030年规模量产

三星电机

韩国

韩国世宗工厂(研发线),越南(规划中)

玻璃中介层、FCBGA基板替代方案

研发加速,目标2027年前后量产,面向自身及外部客户

大日本印刷(DNP

日本

日本本土(研发线+小量试产)

玻璃芯基板(GCS),精细TGV工艺

已小批量试产,目标2026-2027年进入规模供应阶段

Absolics

美国

美国佐治亚州Covington工厂(全球首条量产线)

玻璃基板及TGV技术,面向半导体先进封装

SKC子公司,2024年宣布全球首条量产线投产,已获美国CHIPS法案补贴

沃格光电

中国

江西新余、湖北天门等地

TGV玻璃通孔技术,玻璃基MiniLED背光基板、半导体封装载板

从显示向半导体跨越,已建成TGV量产线,在显示和封装两端齐头并进

东旭光电

中国

安徽芜湖、四川绵阳(中试线布局)

TGV玻璃基板、MiniLED背光基板

从显示基板向半导体封装基板延伸,处于研发中试阶段

康宁

美国

美国本土(研发阶段)

高平整度玻璃基板,面向先进封装

具备玻璃配方优势,尚处技术储备和客户验证阶段

旭硝子(AGC

日本

日本本土(研发阶段)

半导体级超薄玻璃基板

计划切入封装市场,技术储备中

资料来源:观研天下整理

与此同时,玻璃基板凭借低介电损耗、优异的尺寸稳定性以及适用于高频高速场景的突出优势,正逐步替代部分有机基板和硅中介层,成为下一代中介层与面板级封装的重要技术路径。TGV电镀机正是在玻璃基板内部形成铜填充通孔、实现垂直电互连的关键工艺装备。随着AI服务器、高速通信及先进封装产能在全球范围内持续扩张,晶圆厂与封测厂密集建设面板级封装产线,直接拉动了TGV电镀机市场需求。例如,日月光是目前面板级封装领域动作最密集的封测厂,2026年同步推进15座厂区扩建,资本支出上调至85亿美元,涵盖2.5D封装、面板级扇出封装等高端产线布局,其310mm产线被认为是业界首条具备经济效益的高度自动化FOPLP量产线。

与此同时,玻璃基板凭借低介电损耗、优异的尺寸稳定性以及适用于高频高速场景的突出优势,正逐步替代部分有机基板和硅中介层,成为下一代中介层与面板级封装的重要技术路径。TGV电镀机正是在玻璃基板内部形成铜填充通孔、实现垂直电互连的关键工艺装备。随着AI服务器、高速通信及先进封装产能在全球范围内持续扩张,晶圆厂与封测厂密集建设面板级封装产线,直接拉动了TGV电镀机市场需求。例如,日月光是目前面板级封装领域动作最密集的封测厂,2026年同步推进15座厂区扩建,资本支出上调至85亿美元,涵盖2.5D封装、面板级扇出封装等高端产线布局,其310mm产线被认为是业界首条具备经济效益的高度自动化FOPLP量产线。

数据来源:观研天下整理

全球主要晶圆厂与封测厂在面板级封装(PLP/FOPLP)产线建设

企业

产线/项目

基板规格

产线状态

量产时间表

日月光投控

高雄FOPLP量产线

310mm×310mm自动化产线

设备导入中,年底试产

2026年底试产,2027年上半年正式投产

力成科技

台湾FOPLP产线

510mm×515mm大尺寸面板

2025年已跨入量产门槛

2026年大规模扩产,2027年逐步放量

力成×博通(合资)

新加坡PLP合资公司

面板级先进封装基板

厂房预计2026年底动土

2028年投入量产

台积电

CoPoS方案试验线(采钰龙潭厂)

310mm×310mm(锁定)

试产线已建成,设备验证中

2027年试产,20282029年大规模量产

三星电机

玻璃基板量产线

研发加速中

锁定2027年量产

资料来源:观研天下整理

3、全球TGV电镀机行业市场规模不断扩大,中国市场占比为34.24%

因此,在上述因素影响下,TGV电镀机行业市场规模不断扩大。根据数据,2025年全球TGV电镀机市场销售额达到了17.04亿元,预计2032年将达到27.58亿元,年复合增长率为7.2%。地区层面来看,中国市场在过去几年变化较快,2024年市场规模为0.60亿美元,约占全球的34.24%,预计2031年将达到1.18亿美元。

因此,在上述因素影响下,TGV电镀机行业市场规模不断扩大。根据数据,2025年全球TGV电镀机市场销售额达到了17.04亿元,预计2032年将达到27.58亿元,年复合增长率为7.2%。地区层面来看,中国市场在过去几年变化较快,2024年市场规模为0.60亿美元,约占全球的34.24%,预计2031年将达到1.18亿美元。

数据来源:观研天下整理(WYD)

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2026年07月18日
碳化硅功率半导体器件行业:MOSFET分立器件成主流、车载模块放量 国产全链条突围加快

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全球碳化硅功率半导体器件市场呈现典型寡头垄断格局,行业核心份额由六家海外IDM企业主导:美国Wolfspeed具备衬底至器件全产业链能力,8英寸衬底量产能力全球领先,其在2025年完成破产重组后,依旧是全球核心的SiC衬底供应商。德国英飞凌在车规SiC MOSFET模块领域市占领先,封装技术优势突出;日本罗姆提前布局8

2026年07月18日
全球碳化硅单晶炉行业高景气上行 国内竞争走向差异化 双龙头断层领跑市场

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碳化硅单晶炉(SiC 长晶炉)是制备4H-SiC 单晶衬底的核心专用设备,属于第三代半导体产业链上游最高壁垒环节,直接决定衬底尺寸、缺陷密度、良率与生产成本,是新能源汽车、光伏储能、AI 高压电源的刚需装备。目前全球90% 商用衬底采用 PVT 物理气相传输法,其余为下一代技术在研。

2026年07月17日
汽车电子、AI数据中心催化 氮化镓行业向超高压渗透 IDM 赋能国产全球化进阶

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中国企业已成为全球GaN产业重要力量。其中英诺赛科为全球产能最高的GaN器件厂商,8英寸GaN晶圆月产能计划从1.3万片提升至2万片。截至2026年6月,GaN功率器件累计出货量突破20亿颗。在GaNFET.com统计中,英诺赛科以90款高压GaN器件位居全球数量第一,占比21.38%。

2026年07月17日
玻璃基板行业市场分析:美日寡头垄断格局松动 TGV技术开启先进封装新纪元

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在竞争格局上,美日三巨头(康宁、旭硝子、电气硝子)合计占据显示玻璃基板大部分全球份额,高端市场定价权仍由其把控;但以东旭光电、彩虹股份为代表的国产显示基板企业已掌握G8.5+量产技术,以沃格光电为代表的国内先行者更在TGV玻璃通孔技术上实现从显示基板向半导体封装载板的跨越并成功量产,与国际巨头几乎同步起跑。

2026年07月17日
TGV深孔溅射设备行业分析:AI算力倒逼封装材料迭代 市场规模已超亿美元

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中国TGV深孔溅射设备市场有望从2024年的0.46亿美元增长至2030年的1.15亿美元,年复合增长率达13.05%,显著高于全球平均水平。在“AI算力倒逼封装材料迭代、玻璃基板产业化从0到1”的战略窗口期,TGV深孔溅射设备作为金属化环节的关键装备,有望迎来从技术验证到产业化放量的历史性机遇。

2026年07月17日
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