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我国高纯氢应用格局多元 需求扩容与产能过剩并存 价格承压下行

前言:

高纯氢作为高纯度工业气体,生产储运环节要求严苛。目前我国高纯氢应用格局多元,电子与半导体领域为消费主力。但行业同时呈现产能消费双升却增速失衡的态势,2021-2025年产能增速远超消费,2025年产能过剩加剧,市场供过于求直接导致高纯氢价格全年承压下行。

1.高纯氢生产储运要求与新国标要求

高纯氢是纯度要求极高的氢气产品,其生产、存储与运输环节均有严苛要求,生产中需严格管控氮气、氧气、水蒸气等杂质含量以保障纯度,存储运输过程中则需避免与空气、水分接触,防止氢气受到杂质污染。国家标准GB/T 3634.2—2025《氢气 第2部分:纯氢、高纯氢和超纯氢》将于2026年5月1日正式实施,替代原GB/T 3634.2-2011版本。新国标明确规定,高纯氢氢气(H2)纯度(摩尔分数) 需≥99.999×10⁻²,氧(O2)含量(摩尔分数)<1×10⁻⁶,杂质总含量(摩尔分数)应≤10×10⁻⁶,其余具体技术要求详见下表。

新旧国标中高纯氢的技术要求

项目 旧国标(体积分数) 新国标(摩尔分数)
氢气(H2)纯度 ≥99.999×10⁻² ≥99.999×10⁻²
氧(O2)含量 ≤1×10⁻⁶ <1×10⁻⁶
氩(Ar)含量 供需协商 供需协商
氮(N2)含量 ≤5×10⁻⁶ <5×10⁻⁶
一氧化碳(CO)含量 ≤1×10⁻⁶ <1×10⁻⁶
二氧化碳(CO2)含量 ≤1×10⁻⁶ <1×10⁻⁶
总烃(以甲烷计)含量 - <1×10⁻⁶
甲烷(CH4)含量 ≤1×10⁻⁶ -
水分(H2O)含量 ≤3×10⁻⁶ <3×10⁻⁶
杂质总含量 ≤10×10⁻⁶ ≤10×10⁻⁶

资料来源:国家标准全文公开系统、观研天下整理

注:新国标中并未具体提甲烷含量,而是用总烃(以甲烷计)含量替代旧国标对应的甲烷含量一栏

2.高纯氢行业目前已形成多元化的应用格局,电子与半导体领域主导

根据观研报告网发布的《中国高纯氢行业发展深度研究与投资前景预测报告(2026-2033年)》显示,作为一种重要的工业气体,我国高纯氢行业目前已形成多元化的应用格局,广泛覆盖电子、半导体、精细化工、医药中间体、冶金工业、浮法玻璃、新能源(光伏、氢燃料电池汽车等)、食品、光纤通信等领域,应用前景广阔。2021-2025年,我国高纯氢下游消费由电子与半导体领域主导,占比始终保持50%以上;精细化工和医药中间体行业紧随其后,2024年相关消费占比达18.5%。

高纯氢下游应用情况

应用领域 用途
电子和半导体 电子:用于液晶显示器的制造和其他电子元件的生产;半导体:高纯氢是半导体制造中不可或缺的关键工艺气体,广泛应用于晶圆外延生长、化学气相沉积(CVD)、退火及等离子清洗等核心环节,主要作为还原剂与保护气,用以去除氧化物、抑制杂质,从而显著提升晶圆纯度、保障芯片良率与性能。
精细化工 高纯氢是精细化工核心原料与反应助剂,广泛参与催化氢化、还原精制等关键工艺。
医药中间体 高纯氢是医药中间体合成的重要原料,参与多种活性医药中间体的催化氢化反应,可精准调控反应进程,提升中间体纯度与收率,为原料药生产提供高纯度基础原料,保障医药产品质量。
冶金工业 高纯氢作为强效还原剂将金属氧化物还原成纯金属,可用于钨、钛、铝、钢、镍、铬等金属冶炼。
浮法玻璃 在浮法玻璃生产的锡槽环节,高纯氢作为还原性保护气,防止液态锡氧化生成二氧化锡缺陷,是确保超薄玻璃基板(用于OLED、Mini-LED)表面极致平整与高透光率的关键工艺变量。
新能源 光伏领域:在硅料制备中,它是“改良西门子法”进行三氯氢硅氢还原反应以生产高纯多晶硅不可或缺的原料。在硅片加工中,它常用于非晶硅薄膜沉积等镀膜工艺,作为稀释与保护气以优化薄膜质量。在氢燃料电池汽车领域,作为燃料使用。
食品 高纯氢在食品领域主要用作氢化反应助剂,参与植脂末、食用油等产品的氢化加工,还可用于食品原料的除氧保鲜,能提升产品稳定性与品质。
光纤通信 在光纤预制棒沉积过程中,超高纯氢(常需≥6N)作为载气,其纯净度直接决定光纤中羟基(OH⁻)等杂质含量,是影响光纤衰减系数、保障5G/6G长距离高速传输的基础性材料。

资料来源:公开资料、观研天下整理

资料来源:公开资料、观研天下整理

数据来源:公开资料、观研天下整理

3.半导体与光伏产业驱动高纯氢需求释放

在半导体制造中,高纯氢作为关键工艺气体,广泛应用于外延生长、化学气相沉积(CVD)、退火及等离子清洗等核心制程。它主要扮演还原剂与保护气的角色,用以高效去除晶圆表面的氧化物并抑制杂质引入,从而直接提升晶圆纯度、保障芯片的最终良率与性能。受益于国家政策支持、技术自主突破及市场需求增长,我国半导体产业蓬勃发展,市场规模持续扩大。与此同时,中国大陆晶圆产能亦实现跨越式提升,2020-2024年间的年均复合增长率达29.12%,为高纯氢创造了坚实且持续的应用需求。

在半导体制造中,高纯氢作为关键工艺气体,广泛应用于外延生长、化学气相沉积(CVD)、退火及等离子清洗等核心制程。它主要扮演还原剂与保护气的角色,用以高效去除晶圆表面的氧化物并抑制杂质引入,从而直接提升晶圆纯度、保障芯片的最终良率与性能。受益于国家政策支持、技术自主突破及市场需求增长,我国半导体产业蓬勃发展,市场规模持续扩大。与此同时,中国大陆晶圆产能亦实现跨越式提升,2020-2024年间的年均复合增长率达29.12%,为高纯氢创造了坚实且持续的应用需求。

数据来源:WSTS世界半导体贸易统计协会、观研天下整理

数据来源:WSTS世界半导体贸易统计协会、观研天下整理

数据来源:公开资料、观研天下整理

注:按8英寸等效计算

光伏产业的快速发展也为高纯氢行业带来了新增量。在光伏上游制造中,高纯氢是关键工艺气体:在多晶硅生产环节,它是“改良西门子法”中通过三氯氢硅氢还原反应制备高纯多晶硅不可或缺的原料;在硅片加工环节,则常用于非晶硅薄膜沉积等镀膜工艺,作为稀释与保护气体以优化薄膜质量。近年来,我国光伏装机容量持续快速攀升,直接带动上游硅料、硅片产能及需求同步释放,进而为高纯氢行业注入持续动力,带来可观的需求增量。

光伏产业的快速发展也为高纯氢行业带来了新增量。在光伏上游制造中,高纯氢是关键工艺气体:在多晶硅生产环节,它是“改良西门子法”中通过三氯氢硅氢还原反应制备高纯多晶硅不可或缺的原料;在硅片加工环节,则常用于非晶硅薄膜沉积等镀膜工艺,作为稀释与保护气体以优化薄膜质量。近年来,我国光伏装机容量持续快速攀升,直接带动上游硅料、硅片产能及需求同步释放,进而为高纯氢行业注入持续动力,带来可观的需求增量。

数据来源:国家能源局、观研天下整理

4.高纯氢产能消费齐升,行业产能过剩加剧、价格承压下行

近年来,伴随技术迭代与企业积极布局,我国高纯氢产能持续扩张,2025年产能突破65万吨,2021-2025年年均复合增长率达15.90%。然而,下游需求增速未能同步跟上,同期消费量年均复合增长率仅为7.78%,显著低于产能增速。由于高纯氢产量主要依据实际需求调整,导致产量增长滞后,行业产能利用率持续下滑,产能过剩问题逐渐显现。

近年来,伴随技术迭代与企业积极布局,我国高纯氢产能持续扩张,2025年产能突破65万吨,2021-2025年年均复合增长率达15.90%。然而,下游需求增速未能同步跟上,同期消费量年均复合增长率仅为7.78%,显著低于产能增速。由于高纯氢产量主要依据实际需求调整,导致产量增长滞后,行业产能利用率持续下滑,产能过剩问题逐渐显现。

数据来源:公开资料、观研天下整理

数据来源:公开资料、观研天下整理

数据来源:公开资料、观研天下整理

数据来源:公开资料、观研天下整理

数据来源:公开资料、观研天下整理

2025年我国高纯氢下游需求虽在增长,但不及预期,叠加新增产能持续投放与前期未消化产能,行业产能过剩进一步加剧,市场整体陷入供过于求状态,推动产品价格承压下行,下半年跌势尤为明显。数据显示,2025年1月国内高纯氢市场均价2.51元/标方,6月跌至2.48元/标方,12月进一步降至2.26元/标方,全年累计跌幅约10%。

2025年我国高纯氢下游需求虽在增长,但不及预期,叠加新增产能持续投放与前期未消化产能,行业产能过剩进一步加剧,市场整体陷入供过于求状态,推动产品价格承压下行,下半年跌势尤为明显。数据显示,2025年1月国内高纯氢市场均价2.51元/标方,6月跌至2.48元/标方,12月进一步降至2.26元/标方,全年累计跌幅约10%。

数据来源:氢能与碳链、观研天下整理(WJ)

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