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全球光刻机销量整体上升 中低端产品为主流 中国国产替代空间广阔

1.全球光刻机销量整体上升

根据观研报告网发布的《中国光刻机行业发展趋势分析与未来投资预测报告(2024-2031年)》显示,光刻机又名掩模对准曝光机,是一种用于制造‌半导体芯片的关键设备,通过类似照片冲印的技术,将掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到‌硅片上。‌其广泛应用于半导体芯片的生产,是制造高端芯片不可或缺的设备,技术水平和制造精度直接影响到芯片的性能和制程水平。因此,光刻机行业发展与半导体行业发展息息相关。数据显示,近年来全球半导体行业稳步发展,销售规模呈现整体扩大态势,由2016年的3400亿美元上升至2022年的5740亿美元,年均复合增长率达到9.12%。在半导体行业推动下,全球光刻机销量也整体呈现上升态势,由2016年的245台上升至2022年的510台,年均复合增长率达到13%。

光刻机又名掩模对准曝光机,是一种用于制造‌半导体芯片的关键设备,通过类似照片冲印的技术,将掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到‌硅片上。‌其广泛应用于半导体芯片的生产,是制造高端芯片不可或缺的设备,技术水平和制造精度直接影响到芯片的性能和制程水平。因此,光刻机行业发展与半导体行业发展息息相关。数据显示,近年来全球半导体行业稳步发展,销售规模呈现整体扩大态势,由2016年的3400亿美元上升至2022年的5740亿美元,年均复合增长率达到9.12%。在半导体行业推动下,全球光刻机销量也整体呈现上升态势,由2016年的245台上升至2022年的510台,年均复合增长率达到13%。

数据来源:SIA、观研天下整理

数据来源:SIA、观研天下整理

数据来源:公开资料、观研天下整理

2.全球光刻机市场以中低端产品为主

据悉,光刻机可分为直写光刻机与掩膜光刻机,主要有i-Iine(汞线)、KrF(氟化氪)、ArF(氟化氩)、ArFi(浸润式氟化氩)、EUV(极紫外)五大类。其中,i-Iine(汞线)、KrF(氟化氪)光刻机是光刻机市场中的中低端产品,2022年销量合计占比71.5%,是全球光刻机市场中的主流产品;ArF(氟化氩)和ArFi(浸润式氟化氩)光刻机为高端产品,2022年合计占比21.2%;EUV(极紫外)光刻机为超高端产品,销量占比仅为7.3%。

2022年全球各类光刻机销量占比情况

档次

分类

销量占比

中低端

i-Iine(汞线)光刻机

33.6%

KrF(氟化氪)光刻机

37.9%

高端

ArF(氟化氩)光刻机

5.8%

ArFi(浸润式氟化氩)光刻机

15.4%

超高端

EUV(极紫外)光刻机

7.3%

数据来源:公开资料、观研天下整理

3.全球光刻机市场呈现寡头垄断格局

光刻机被称为半导体工业皇冠上的明珠,是技术难度、价值量最高的半导体设备,技术复杂度和制造难度极高,核心技术掌握在全球少数几家公司手中。同时,光刻机行业还存在较高的人才和资金壁垒,行业进入门槛高。也因此,全球光刻机市场呈现寡头垄断竞争格局,来自荷兰的ASML独占了全球70%以上的市场份额,2022年达到82.10%;其次是日本的Canon,达到10.2%。从2023年全球光刻机的销量来看,ASML龙头地位稳固,销量稳居世界第一,达到449台,几乎是排名第二的Canon和第三的Nikon两家公司销量总和的2倍。

光刻机被称为半导体工业皇冠上的明珠,是技术难度、价值量最高的半导体设备,技术复杂度和制造难度极高,核心技术掌握在全球少数几家公司手中。同时,光刻机行业还存在较高的人才和资金壁垒,行业进入门槛高。也因此,全球光刻机市场呈现寡头垄断竞争格局,来自荷兰的ASML独占了全球70%以上的市场份额,2022年达到82.10%;其次是日本的Canon,达到10.2%。从2023年全球光刻机的销量来看,ASML龙头地位稳固,销量稳居世界第一,达到449台,几乎是排名第二的Canon和第三的Nikon两家公司销量总和的2倍。

资料来源:观研天下整理

资料来源:观研天下整理

数据来源:公开资料、观研天下整理

数据来源:公开资料、观研天下整理

数据来源:各公司官网、观研天下整理

4.中国光刻机国产替代空间广阔

我国是全球最大的半导体市场,芯片销售规模约占全球的1/3,对光刻机的需求量大。但我国光刻机行业起步较晚且技术壁垒高筑,目前其国产化率不足5%,需要大量依靠进口补充。同时面对其他国家光刻机、芯片等产品的出口限制,实现光刻机国产替代势在必行, 进口替代空间广阔。

不过,国产光刻机已经有了重大突破。2024年9月,为促进首台(套)重大技术装备创新发展和推广应用,加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的协同,工业和信息化部发布《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》。其中,在电子专用设备一栏,氟化氪光刻机、氟化氩光刻机位列其中。据悉,中国首台(套)重大技术装备是指国内实现重大技术突破、拥有知识产权、尚未取得明显市场业绩的装备产品。这也意味着入选的两款光刻机产品均由我国自主研发而成,且已经拥有氟化氩光刻机这一高端产品。未来,随着光刻机技术不断突破和利好政策持续推动,预计我国光刻机国产替代进程将会持续推进,国产化率或将不断提高。(WJ)

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