1.全球光刻机销量整体上升
根据观研报告网发布的《中国光刻机行业发展趋势分析与未来投资预测报告（2024-2031年）》显示，光刻机又名掩模对准曝光机，是一种用于制造半导体芯片的关键设备，通过类似照片冲印的技术，将掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。其广泛应用于半导体芯片的生产，是制造高端芯片不可或缺的设备，技术水平和制造精度直接影响到芯片的性能和制程水平。因此，光刻机行业发展与半导体行业发展息息相关。数据显示，近年来全球半导体行业稳步发展，销售规模呈现整体扩大态势，由2016年的3400亿美元上升至2022年的5740亿美元，年均复合增长率达到9.12%。在半导体行业推动下，全球光刻机销量也整体呈现上升态势，由2016年的245台上升至2022年的510台，年均复合增长率达到13%。
数据来源：SIA、观研天下整理
数据来源：公开资料、观研天下整理
2.全球光刻机市场以中低端产品为主
据悉，光刻机可分为直写光刻机与掩膜光刻机，主要有i-Iine（汞线）、KrF（氟化氪）、ArF（氟化氩）、ArFi（浸润式氟化氩）、EUV（极紫外）五大类。其中，i-Iine（汞线）、KrF（氟化氪）光刻机是光刻机市场中的中低端产品，2022年销量合计占比71.5%，是全球光刻机市场中的主流产品；ArF（氟化氩）和ArFi（浸润式氟化氩）光刻机为高端产品，2022年合计占比21.2%；EUV（极紫外）光刻机为超高端产品，销量占比仅为7.3%。
2022年全球各类光刻机销量占比情况
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档次 |
分类 |
销量占比 |
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中低端 |
i-Iine（汞线）光刻机 |
33.6% |
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KrF（氟化氪）光刻机 |
37.9% |
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高端 |
ArF（氟化氩）光刻机 |
5.8% |
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ArFi（浸润式氟化氩）光刻机 |
15.4% |
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超高端 |
EUV（极紫外）光刻机 |
7.3% |
数据来源：公开资料、观研天下整理
3.全球光刻机市场呈现寡头垄断格局
光刻机被称为半导体工业皇冠上的明珠，是技术难度、价值量最高的半导体设备，技术复杂度和制造难度极高，核心技术掌握在全球少数几家公司手中。同时，光刻机行业还存在较高的人才和资金壁垒，行业进入门槛高。也因此，全球光刻机市场呈现寡头垄断竞争格局，来自荷兰的ASML独占了全球70%以上的市场份额，2022年达到82.10%；其次是日本的Canon，达到10.2%。从2023年全球光刻机的销量来看，ASML龙头地位稳固，销量稳居世界第一，达到449台，几乎是排名第二的Canon和第三的Nikon两家公司销量总和的2倍。
资料来源：观研天下整理
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4.中国光刻机国产替代空间广阔
我国是全球最大的半导体市场，芯片销售规模约占全球的1/3，对光刻机的需求量大。但我国光刻机行业起步较晚且技术壁垒高筑，目前其国产化率不足5%，需要大量依靠进口补充。同时面对其他国家光刻机、芯片等产品的出口限制，实现光刻机国产替代势在必行, 进口替代空间广阔。
不过，国产光刻机已经有了重大突破。2024年9月，为促进首台（套）重大技术装备创新发展和推广应用，加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的协同，工业和信息化部发布《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》。其中，在电子专用设备一栏，氟化氪光刻机、氟化氩光刻机位列其中。据悉，中国首台（套）重大技术装备是指国内实现重大技术突破、拥有知识产权、尚未取得明显市场业绩的装备产品。这也意味着入选的两款光刻机产品均由我国自主研发而成，且已经拥有氟化氩光刻机这一高端产品。未来，随着光刻机技术不断突破和利好政策持续推动，预计我国光刻机国产替代进程将会持续推进，国产化率或将不断提高。（WJ）
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