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晶圆扩产潮驱动 我国半导体减薄机行业快速发展 国产厂商正加速崛起

前言:

半导体减薄机是芯片封装的关键设备,直接关乎芯片性能与集成度。伴随国内晶圆产能的迅猛扩张以及Chiplet等先进封装技术的崛起,减薄机市场迎来黄金发展期。面对超薄化趋势带来的技术挑战,国产企业正奋力突破海外垄断,在巨大的替代空间中寻找立足点。

1、半导体减薄机是不可或缺的后道关键设备

根据观研报告网发布的《中国半导体减薄机行业发展深度分析与投资前景研究报告(2025-2032年)》显示,半导体减薄机是芯片制造后道封装环节的核心设备之一,其主要功能是利用机械研磨或化学机械抛光(CMP)等技术,将晶圆背面材料去除,使其达到所需的厚度,具有提升电学与散热性能、满足先进封装要求等重要性。

半导体减薄机的重要性

<strong>半导体减薄机的重要性</strong>

资料来源:观研天下整理

2、晶圆厂扩产潮来袭叠加新兴领域需求释放,我国半导体减薄机行业快速发展

近年来,中国大陆晶圆厂(如中芯国际、长江存储、长鑫存储等)和封装厂(如长电科技、通富微电、华天科技等)持续扩产,产生了巨大的设备采购需求。根据数据显示,中国大陆晶圆产能从2020年的318.4万片/月增长至2024年的885万片/月,年均复合增长率达29.12%(按照8英寸等效计算)。而减薄机作为封装线的标准配置,直接将受益发展。

近年来,中国大陆晶圆厂(如中芯国际、长江存储、长鑫存储等)和封装厂(如长电科技、通富微电、华天科技等)持续扩产,产生了巨大的设备采购需求。根据数据显示,中国大陆晶圆产能从2020年的318.4万片/月增长至2024年的885万片/月,年均复合增长率达29.12%(按照8英寸等效计算)。而减薄机作为封装线的标准配置,直接将受益发展。

数据来源:观研天下整理

中国大陆主要的晶圆制造企业的产能扩张情况

企业名称

扩产计划

技术重点

中芯国际(SMIC

中芯深圳:专注于28nm及以上工艺,规划月产能10万片(12英寸),已进入量产。

成熟制程是当前扩产绝对主力,同时继续研发先进工艺。

中芯京城(北京):原计划重点建设28nm产线,规划月产能10万片(12英寸)。项目分期建设,部分产能已投产。

中芯东方(上海):上海临港基地,规划建设10万片/月的12英寸晶圆产能,工艺节点覆盖28nm及以上。

中芯西青(天津):扩建12英寸产线,规划产能10万片/月,主要生产28nm-180nm芯片。

中芯宁波:专注于特种工艺(如高压模拟、射频等)的晶圆制造。

华虹集团

华虹无锡(二期):重中之重。项目总投资67亿美元,工艺节点覆盖65/55nm40nm,规划月产能8.3万片(12英寸)。正在快速爬坡中,是全球近年来最大的12英寸产线建设项目之一。

特色工艺平台(eNVM、功率器件、模拟与电源管理)和55nm28nm的逻辑工艺。

华力集成(上海):持续进行产能优化和扩充。

合肥晶合集成(Nexchip

晶合三期:规划建设产能4万片/月(12英寸),继续聚焦显示驱动、MCUCIS等特色工艺。

从显示驱动芯片向其他多元化特色工艺平台拓展,是中国大陆重要的55nm150nm代工基地。

晶合四期:已在规划中,将进一步扩大产能。

长江存储(YMTC

武汉三期:规划建设产能20万片/月(12英寸),但因被列入“实体清单”而面临设备获取困难,进度有所推迟,但仍在其能力范围内持续推进。

基于Xtacking架构的3DNAND闪存技术,努力向200层以上堆叠技术迈进。

成都工厂:规划建设大型NANDFlash产线,目前状态待明确。

长鑫存储(CXMT

合肥二厂(B2):已在建设中,计划大幅提升产能。

17nm工艺的DDR4LPDDR4/4XDDR5产品,并持续推进更先进制程的研发。

北京工厂:规划建设产能10万片/月(12英寸),作为新的制造基地。

资料来源:观研天下整理

而在摩尔定律放缓的背景下,先进封装成为提升芯片性能的关键路径。政府及产业界高度重视Chiplet等技术发展,这直接拉动对高端减薄机(能够处理超薄晶圆且碎片率低)的需求。同时,功率器件通常需要减薄至更低的厚度以优化性能,这增加了对特定减薄工艺设备的需求。所以新能源汽车、人工智能、物联网等领域对功率半导体(如IGBT、SiC)的需求爆发,将驱动减薄机市场发展。

3、晶圆呈现超薄化趋势,对减薄机提出更高要求

不过,一般的减薄工艺和晶圆传输方式只能实现对150μm以上厚度晶圆的加工。但随着器件减小,芯片厚度不断减薄,强度随之降低,减薄过程容易形成损伤和微裂纹。这对减薄机的加工精度、应力控制和传输稳定性等都提出了更高的要求。以存储器为例,其封装形式主要为叠层封装,封装的层数目前已达到96层以上,为满足先进封装要求,在封装整体厚度不变甚至减小的趋势下,堆叠中各层芯片的厚度就不可避免地需要减薄。一般来说,较为先进的多层封装所用的芯片厚度都在100μm以下甚至30μm以下,呈现柔软、刚性差、实质脆弱等特点,要求其TTV小于1μm、表面粗糙度Rz<0.01μm,显著增大加工难度。

硅片直径与芯片厚度的变化趋势

<strong>硅片直径与芯片厚度的变化趋势</strong>

资料来源:《超薄晶圆减薄工艺研究》

4、我国半导体减薄机市场竞争格局呈现“外资主导,内资突破”的态势

在市场竞争方面,全球半导体减薄机市场长期被日本Disco株式会社垄断,其占据全球绝大部分市场份额,在技术、品牌和客户认可度上具有绝对优势。其他参与者包括日本OKAMOTO以及韩国、德国的少数企业。

在市场竞争方面,全球半导体减薄机市场长期被日本Disco株式会社垄断,其占据全球绝大部分市场份额,在技术、品牌和客户认可度上具有绝对优势。其他参与者包括日本OKAMOTO以及韩国、德国的少数企业。

资料来源:观研天下整理

不过,一批中国半导体减薄机企业经过多年技术积累,已实现突破,产品覆盖中低端市场,并开始向高端市场渗透。比如,华海清科以其在CMP设备领域的强大技术为基础,成功推出了12英寸减薄机,并进入国内主流晶圆厂,是目前国产替代的领军企业。北京中电科在封装设备领域有深厚积累,其减薄设备在国内封装测试企业中有较多应用。

我国主要半导体减薄设备厂商的最新进展

企业名称

技术突破与产品进展

产能建设与规划

市场布局与客户进展

华海清科

领军企业。成功推出12英寸超精密减薄机,集成CMP(化学机械抛光)技术,实现“研磨-抛光-清洗”一体化。技术亮点:可处理超薄晶圆(最低可达数十微米),在厚度均匀性(TTV)、表面粗糙度(Ra)等关键指标上对标国际先进水平。产品线覆盖背面减薄、粗糙化减薄、Taiko超凸台阶减薄等多种工艺。

随着订单量激增,正积极扩大产能。其生产基地位于天津,产能建设与市场需求同步增长。通过定增等项目募集资金,用于高端半导体设备研发和产能扩张。

市场渗透最深。产品已进入中芯国际、长江存储、长鑫存储等国内头部晶圆厂,并用于大规模生产。客户认可度高,已成为国内新建12英寸产线减薄工艺的主力供应商。

北京中电科

老牌骨干企业。在封装减薄领域深耕多年,产品线覆盖8英寸和12英寸减薄机。技术扎实,在传统封装减薄市场占有率高,性价比优势明显。正积极研发面向先进封装的超薄减薄机。

作为国有企业,产能稳定。根据市场需求进行柔性扩产。

主要客户为国内三大封测厂(长电科技、通富微电、华天科技)以及众多二三线封装企业,根基稳固。在功率半导体(IGBT等)减薄市场也有广泛应用。

盛美上海

差异化创新者。开发了独特的UltraCPU®先进封装抛铜设备,虽非传统减薄机,但实现了在先进封装中硅通孔(TSV)露头的关键“减薄”工艺。技术先进,解决了超薄晶圆在铜暴露工艺中的翘曲和损坏难题。

产能随订单增长而动态调整,注重高端、高附加值产品的产能保障。

市场定位精准,直接切入技术壁垒最高的先进封装领域。已获得多家国际知名IDM企业和国内先进封装线的订单。

沈阳和研科技

硅材料加工专家。虽然主要产品是晶圆划片/切割机,但其在超薄晶圆切割前的减薄工艺有深厚理解和技术积累。提供从减薄到切割的一体化解决方案。

产能主要服务于划片机业务,减薄设备产能规模相对较小。

客户群与封装厂高度重叠,凭借整体解决方案的优势获得市场。

上海微电子(SMEE

作为光刻机龙头,具备整合前后道设备的系统能力,减薄机是其完善产品线的战略布局之一,技术处于追赶阶段。

这些企业的减薄机产能目前主要用于研发和工艺验证,尚未大规模量产。

市场处于早期开拓阶段,主要通过参与国家项目或与战略客户合作进行验证。

中科飞测

主业是检测设备,但其测量技术对减薄工艺的在线监测至关重要,存在协同效应。

资料来源:观研天下整理(WYD)

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