一、全球光刻胶市场规模持续增长，中国市场发展潜力大
光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。全球光刻胶的生产销售起步于20世纪50年代，市场规模总体保持增长。2010-2020年全球光刻胶市场规模由55.5亿美元增长至87亿美元，CAGR保持在4.6%左右。随着汽车、人工智能、国防等电子技术的进步，预计2020-2026年光刻胶CARG将达5.5%，到2026年将超过120亿美元。
数据来源：观研天下数据中心整理
根据观研报告网发布的《中国光刻胶行业现状深度分析与发展趋势预测报告（2022-2029年）》显示，从国内发展情况看，随着光刻胶下游产业向亚太地区转移，我国光刻胶行业增长迅速，增速快于全球。据数据，2010-2020年市场规模由26.9亿元增长至87.4亿元，CAGR达到12.5%。目前国内光刻胶市场规模占全球市场规模的比重不高于20%，增长空间较大。预计2020-2026年我国光刻胶CARG将高达7.2%，2026年市场规模将达156.4亿元。
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二、光刻胶下游市场分布均衡，其中半导体光刻胶占比持续增长
作为电子产品细微加工技术的关键性电子产品，光刻胶被广泛应用于半导体、液晶显示（LCD）、印刷电路板（PCB）等领域。LCD光刻胶分为彩色光刻胶及黑色光刻胶、触摸屏光刻胶、TFT-LCD光刻胶等，PCB光刻胶分为干膜光刻胶、湿膜光刻胶、光成像阻焊油墨等，半导体光刻胶包括G线光刻胶、I线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶、EUV光刻胶等。
光刻胶分类
| 分类 | 细分类别 |
| 半导体光刻胶 | G线光刻胶、I线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶、EUV光刻胶等 |
| LCD光刻胶 | 彩色光刻胶及黑色光刻胶、触摸屏光刻胶、TFT-LCD光刻胶等 |
| PCB光刻胶 | 干膜光刻胶、湿膜光刻胶、光成像阻焊油墨等 |
| 其他用途 | CCD摄像头彩色滤光片彩色光刻胶、触摸屏透明光刻胶、MEMS光刻胶、生物芯片光刻胶等 |
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半导体、液晶显示（LCD）、印刷电路板（PCB）三大领域光刻胶需求占比超70%，分别占全球总消费量的23.3%、25.9%和23.6%。光刻胶中半导体光刻胶应用需求提升速度较快，主要原因在于，随着新能源汽车、5G通讯、物联网等行业的发展，下游应用功率半导体、传感器、存储器等需求的扩大，半导体行业快速发展，也带动上游半导体材料需求增长。
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三、光刻胶行业高度集中，日本企业占据龙头地位
光刻胶的性能指标包括分辨率、对比度、灵敏度、粘度、粘附性、抗蚀性和表面张力等，对生产技术要求较高，主要体现在配方技术、质量控制技术和原材料技术三个方面。除技术壁垒外，光刻胶行业还存在客户壁垒、原料壁垒。光刻胶行业进入门槛高，市场高度集中，CR4约70%。
光刻胶行业壁垒
| 壁垒 | 具体情况 |
| 技术壁垒 | 光刻胶技术壁垒主要体现在配方技术、质量控制技术和原材料技术三方面。配方技术方面，光刻胶下游应用广泛，不同的客户会有不同的应用需求，同一个客户也有不同的光刻应用需求。一般一块半导体芯片在制造过程中需要进行10-50 道光刻过程，由于基板不同、分辨率要求不同、蚀刻方式不同等，不同的光刻过程对光刻胶的具体要求也不一样，即使类似的光刻过程，不同的厂商也会有不同的要求。针对以上不同的应用需求，光刻胶的品种非常多，这些差异主要通过调整光刻胶的配方来实现。因此，通过调整光刻胶的配方，满足差异化的应用需求，是光刻胶制造商最核心的技术。质量控制技术方面，由于用户对光刻胶的稳定性、一致性要求高，需要光刻胶对感光灵敏度、膜厚的一致性保持在较高水平，因此，光刻胶生产商不仅仅要配置齐全的测试仪器，还需要建立一套严格的QA 体系以保证产品质量稳定。原材料技术方面，光刻胶是一种经过严格设计的复杂、精密的配方产品，由树脂、光引发剂、溶剂和添加剂等不同性质的原料，通过不同的排列组合，经过复杂、精密的加工工艺而制成。因此，光刻胶原材料的品质对光刻胶的质量起着关键作用。 |
| 客户壁垒 | 下游客户认证过程复杂、周期长，更换合作商意愿不强。由于光刻胶技术壁垒较高且对电子元器件、部件的功能和稳定性影响大，下游客户对光刻胶专用化学品供应商的选择非常谨慎，通常采用认证采购的模式。认证过程包括“小试、样品认证、中试、工厂现场审核、批量生产”等多个环节，将对相关供应商的质量水平、研发实力、技术保障和售后服务进行详尽的考察和认证。认证所需时间周期较长，通常LCD光刻胶的验证周期为1-2年，半导体光刻胶的验证周期为2-3年左右。由于认证成本较高、更换风险比较大，下游客户非常重视与其合格供应商建立长期稳定的合作关系，切换原有光刻胶供应的意愿不强。 |
| 原材料壁垒 | 光刻胶专用性强。不同用途的光刻胶曝光光源、反应机理、制造工艺、成膜特性、加工图形线路的精度等性能要求不同，导致对于材料的溶解性、耐蚀刻性、感光性能、耐热性等要求不同，因此每一类光刻胶使用的原料在化学结构、性能上都比较特殊。 |
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从竞争情况看，全球光刻胶市场主要被日美企业垄断，其中日本企业基于政策扶持力度加大实现上下游协同发展，从而牢牢占据龙头地位。数据显示，2020年，日本企业在半导体光刻胶市场中占据的份额至少在60%以上。在半导体光刻胶的细分市场中，2020年，日本东京应化在G/I线、KrF和EUV光刻胶市场的份额位列全球第一，分别是25.2%、31.4%和51.8%；而在ArF光刻胶产品市场中，日本JSR以24.9%的市场份额位列全球第一；此外，美国杜邦公司在G/i 线光刻胶市场中也占据明显优势，市场份额位列全球前二。
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全球半导体光刻胶细分市场竞争格局
| 企业 | G/I线光刻胶 | ArF光刻胶 | KrF光刻胶 | EUV光刻胶 |
| 东京应化 | 25.2% | 15.8% | 31.4% | 51.8% |
| 美国杜邦 | 19.1% | 24.9% | 10.9% | 48.2% |
| 日本JSR | 15.7% | 20.9% | ||
| 住友化学 | 40% | 16.8% | ||
| 信越化学 | 21.8% | 21.9% | ||
| 其他 | 20.7% | 14.9% |
数据来源：观研天下数据中心整理（zlj）
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