我国湿电子化学品行业现状：半导体等下游需求大市场规模超过百亿

2022-11-28 10:14

手机浏览

一、概述

湿电子化学品是微电子、光电子湿法工艺制程中使用的各种液体化工材料，广泛用于半导体、显示面板、光伏、LED 等电子元器件微细加工的清洗、光刻、显影、蚀刻、掺杂等工艺环节配套使用，是半导体、显示面板、光伏等制作过程中不可缺少的关键性材料之一。

根据观研报告网发布的《中国湿电子化学品市场发展态势分析与投资战略预测报告（2022-2029年）》显示，从大类来分，一般可划分为通用湿电子化学品和功能湿电子化学品。根据中国电子材料行业协会数据，通用湿电子化学品占比88.2%，其中过氧化氢占比16.7%，氢氟酸占比16%，硫酸占比15.3%，硝酸占比14.3%。功能湿电子化学品占比11.8%，其中MEA等极性溶液占比3.2%，显影液（半导体用）占比2.7%，蚀刻液（半导体用）占比2.2%。

湿电子化学品分类

大类	小类	具体产品
通用湿电子化学品	酸类	氢氟酸、硫酸、磷酸、硝酸、乙酸、乙二酸等
	碱类	氢氧化铵、氢氧化钾、氢氧化钠等
	有机溶剂类	甲醇、乙醇、丙酮、丁酮、乙酸乙酯、甲苯等
	其他类	过氧化氢等
功能湿电子化学品	复配类化学品	显影液、剥离液、清洗液、蚀刻液、稀释液等

数据来源：观研天下整理

湿电子化学品分类作用及占比

类别	名称	作用	占湿电子化学品总需求比例	合计占比
通用湿电子化学品	过氧化氢	清洗、腐蚀剂，可与浓硫酸、硝酸、氫氟酸、氢氧化铵等配制使用，在集成电路制程应用较多	16.7%	88.2%
	氢氟酸	强酸性清洗、腐蚀剂，可与硝酸、冰醋酸、过氧化氢及氢氧化铵等配制使用	16.0%
	硫酸	强酸性清洗、腐蚀剂，在集成电路制程应用最多	15.3%
	硝酸	酸性清洗、腐蚀剂，可与冰乙酸、过氧化氢配制使用	14.3%
	磷酸	超纯磷酸为酸性腐蚀剂，主要用于超大规模集成电路工艺技术的生产	8.7%
	盐酸	酸性清洗、腐蚀剂，可与过氧化氢配制使用，可有效降低金属杂质	4.8%
	氢氧化钾	用于氧化物蚀刻	3.8%
	氨水	碱性清洗、腐蚀剂，可与过氧化氢、水、氢氟酸配制使用	3.7%
	异丙酮	用作电子清洁剂	2.8%
	醋酸	用作铝等蚀刻液	1.9%
功能湿电子化学品	MEA等极性溶液	用于半导体清洗	3.2%	11.8%
	显影液（半导体用）	光刻胶曝光后显影剂	2.7%
	蚀刻液（半导体用）	硅、金属层蚀刻	2.2%
	显影液（面板用）	光刻胶曝光后显影剂	1.6%
	剥离液（半导体用）	剥离液通常用在蚀刻工艺完成之后，用于去除光刻胶和残留物质，同时防止对下层的衬底层造成损坏	1.2%
	缓冲蚀刻液（BOE）	主要用于蚀刻二氧化硅（SiO2）或氮化硅（Si3N4）的薄膜	0.9%

数据来源：观研天下整理

二、发展现状

湿电子化学品的纯度和洁净度对电子元器件的成品率、电性能和可靠性有十分重要的影响。近年来，我国湿电子化学品行业市场规模呈稳步增长态势。根据数据显示，2021年，我国湿电子化学品行业市场规模达到137.8亿元，2015-2021年的年复合增长率为14.6%。

数据来源：观研天下整理

需求方面，目前，湿电子化学品行业主要应用于半导体、平板显示、太阳能电池等领域。近年来，随着半导体、太阳能电池等产业快速发展，带动我国湿电子化学品行业需求稳步增长。根据数据显示，2021年，我国湿电子化学品需求量为213.5万吨，预计2025年需求量将达到369.6万吨。其中，2021年湿电子化学品行业的半导体领域需求量70.3万吨，光伏需求量65.4万吨；预计到2025年半导体需求量106.9万吨，光伏需求量113.1万吨。

数据来源：观研天下整理

具体从细分应用市场来看，

1、半导体领域

湿电子化学品在主要应用于半导体加工的硫酸、双氧水、氨水等。其中，需求量最大的是硫酸，使用量占比32.8%，其次是双氧水，使用量占比28.1%。随着半导体产业快速发展，集成电路用湿电子化学品市场规模也不断扩大，2021年达到52.1亿元。

数据来源：观研天下整理

2、显示面板领域

在显示面板领域，湿电子化学品在磷酸、硝酸、MEA等极性溶液等领域需求较大。具体从需求结构来看，磷酸对湿电子化学品需求占比为41.3%，硝酸对湿电子化学品需求占比为24.06%，MEA等极性溶液对湿电子化学品需求占比为15.8%。市场规模方面，根据数据显示，截止2021年，我国显示面板用湿电子化学品市场规模为62.3亿元，预计到2025年将达到126.5亿元。