我国光刻胶行业：PCB光刻胶为主要产品 高端市场被国外企业占据

光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。

光刻胶主要应用于半导体制造、显示面板、PCB（印制电路板）、微机电系统等领域，而随这些领域的快速发展，带动了光刻胶市场需求的增长。数据显示，2019年到2023年我国光刻胶行业市场规模从81.4亿元增长到了109.2亿元，连续五年市场规模稳定增长。

数据来源：观研天下整理

从产品结构来看，我国光刻机市场主要以PCB光刻胶为主，占比达到了94%；其次为面板光刻胶，占比为3%；第三是半导体光刻胶，占比为2%。

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从参与企业来看，我国光刻机行业参与企业较少，截至2025年3月7日我国光刻胶行业相关企业注册量只有941家，其中企业注册量前五的省市分别为江苏省、广东省、上海市、浙江省、北京市；企业注册量分别为236家、171家、88家、60家、59家；占比分别为25.08%、18.17%、9.35%、6.38%、6.27%。

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从国产率来看，由于我国光刻胶行业发展较晚，所以在技术上与国外企业有所差距，而在产品生产也是主要集中在生产难度较低的PCB光刻胶，而LCD光刻胶、半导体光刻胶由于技术难度大，所以国产化率较低。

光刻胶国产化情况

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从细分市场竞争格局来看，在PCB光刻胶市场干膜光刻胶产品被日本旭化成、日本日立化成、中国台湾长兴化学等垄断，而容大感光、广信材料、东方材料、北京力拓达等本土企业占据国内湿膜光刻胶和光成像阻焊油墨的主要市场份额。面板光刻胶则主要被主要由日本、韩国和德国外资品牌占领。半导体光刻胶由于技术要求高，市场由JSR、东京应化、信越、杜邦、富士等国际巨头垄断；国内部分企业加大对半导体光刻胶技术研发。

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