全球光刻机行业竞争现状：主要以中低端产品为主 ASML占据全球主要市场

2024-03-05 11:01

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一、光刻机简介

光刻机是一种用于半导体制造中的关键设备，是通过光刻技术将电路图案转移到硅片上，其性能决定了了芯片的工艺水平，所以在半导体前道设备占有较高的市场份额。数据显示，在2022年光刻设备价值量在整个半导体前道设备价值总量中占比为17%。

二、全球光刻机销量情况

光刻机开发难度大，价值量高，市场主要有光刻设备有i-line、KrF、ArF、ArFi、EUV五大类。目前全球光刻机市场主还是以中低端产品为主，数据显示，2022年KrF占比最高，为37.9%，其次是i-line，占比33.6%，这两个产品占比较高，合计占比超过了70%。ArFi、ArF和EUV占比较少，占比分别为15.4%、5.8%、7.3%。

数据来源：观研天下整理

三、光刻机市场情况

随着下游消费电子、传统工业等应用领域的快速发展，光刻机需求量也在不断增长，2022年全球光刻机市场规模约为258.4亿美元。具体从企业竞争来看，目前光刻机市场主要厂商为ASML、Nikon、Canon三家企业，而这三家企业也占据了全球光刻机市场的主要份额，市场呈现垄断格局。数据显示，在2022年ASML市场份额占比为82.1%，Canon市场份额占比10.2%，Nikon市场份额占比为7.7%，其中ASML占据全球光刻机主要市场。

数据来源：观研天下整理

四、国外主要光刻机厂商

国外光刻机主要厂商有ASML、Nikon和Canon等企业，其中ASML拥有DUV&EUV、干式&浸没式等全系列光刻设备，其光刻技术及产品均处于全球领先地位，在2023年ASML营业收入达到了275.59亿欧元，归母净利润为78.39亿欧元，在 2023 年实现了 30% 的增长，毛利率为 51.3%，积压订单为 390亿欧元。

国外主要光刻机厂商

公司简称	所属国家	成立时间	光刻机相关业务情况
ASML	荷兰	1984年	ASML拥有DUV&EUV、干式&浸没式等全系列光刻设备，其光刻技术及产品均处于全球领先地位。
Nikon	日本	1917年	Nikon是全球三大光刻设备厂商之一，在i-line、KrF、ArF光刻机方面有较为全面的布局，其中，Nikon在高端浸没式ArF光刻机方面仅次于ASML，分辨率可达≤38nm，具有较强的市场竞争能力。
Canon	日本	1937年	Canon的光刻机阵容包括i-line光刻机和KrF光刻机产品线，主要针对中低端市场,其FPA-6300ES6a型号可实现≤90nm分辨率。

资料来源：公开资料、观研天下整理

从产品销量来看，在2023年ASML光刻机销售量排名第一，为为449台，其中在ArFi、ArF、KrF销量分别为125台、32台、184台。其次是Canon，2023年Canon光刻机销售总量为187台，其中i-line光刻机销售131台，KrF光刻机销售56台。第三是Nikon，光刻机销售总量为45台，其中，浸没式ArF光刻机销售量为9台，干式ArF光刻机销售量为10台，KrF、i-line光刻机销售量分别为2台、24台。

2023年国外主要光刻机厂商产品销量情况

公司简称	光刻机销售量情况
ASML	449台
Nikon	45台
Canon	187台

资料来源：公开资料、观研天下整理

五、国内主要光刻机厂商

目前国内光刻机相关企业主要有上海微电子、炬光科技、茂莱光学、晶方科技和福晶科技等，其中上海微电子是国内半导体前道光刻设备的主要企业，公司自成立以来多次承担光刻机相关的国家重大科技专项，包括浸没式光刻机、90nm光刻机等，所产的的光刻机可用于IC前道（SSX600）、先进封装（SSB500）、LED&MEMS（SSB300）等领域。

我国光刻机行业相关企业情况

公司简称	成立时间	光刻机相关业务/主营业务
上海微电子	2002年	公司自成立以来多次承担光刻机相关的国家重大科技专项，包括浸没式光刻机、90nm光刻机等，所产的的光刻机可用于IC前道（SSX600）、先进封装（SSB500）、LED&MEMS（SSB300）等领域。
炬光科技	2007年	公司的光场匀化器基于光场匀化核心技术，能够实现对激光光束的高度匀化，以满足光刻机等高端应用需求，产品应用于国内主要光刻机研发项目和样机中，并供应给世界顶级光学公司，最终应用于全球高端光刻机生产商的核心设备。
茂莱光学	1999年	公司是国内领先的精密光学综合解决方案提供商，专注于精密光学器件、光学镜头和光学系统的研发、设计、制造及销售。根据公司资料显示，目前公司已掌握“光刻机曝光物镜超精密光学元件加工”核心技术，且已应用于国产光刻机中。
晶方科技	2005年	公司是专业的封测服务提供商，封装产品包括图像传感器芯片、生物身份识别芯片、MEMS芯片等。根据公司资料显示，在2019年，晶方科技完成对荷兰Anteryon公司的并购，后者拥有混合镜头、晶圆级微型光学器件工艺技术设计及量产能力，全球光刻机龙头ASML是其最主要客户之一。
福晶科技	2001年	公司主要从事晶体元器件、精密光学元件和光器件等产品的研发、制造和销售，是全球规模最大的LBO、BBO晶体及其元器件的生产企业，市场占有率全球第一，其中LBO晶体器件被国家工信部和中国工业经济联合会评为“制造业单项冠军产品（2019年-2021年）。
科益虹源	2016年	2018年3月，科益虹源自主设计开发的国内首台高能准分子激光器顺利出货，打破了国外厂商的长期垄断，成为国内第一家、世界第三家具备193nm ArF准分子激光技术研究和产品化的公司。
华卓精科	2012年	公司业务核心为光刻机双工作台，与清华大学合作紧密，已经取得技术突破，并推出DWS系列产品。此外公司承担多项“02专项”项目，积累了丰富的技术和专利，是上海微电子的双工作台供应商。