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我国溅射靶材行业规模与下游应用情况 市场需求持续扩大

溅射靶材是一种新型的物理气相镀膜方式,主要是指用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上,使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。

溅射靶材的要求较行业高,一般要求如,尺寸、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/、尺寸与缺陷控制;较高要求或特殊要求包含、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物(氧化物)含量与尺寸、超高密度与超细晶粒等等。

溅射靶材根据形状分,可分为方靶,圆靶,异型靶;根据成份分,可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材;根据应用不同分,可分为半导体关联陶瓷靶材、记录介质陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、超导陶瓷靶材和巨磁电阻陶瓷靶材等;根据应用领域分,可分为微电子靶材、磁记录靶材、光碟靶材、贵金属靶材、薄膜电阻靶材、导电膜靶材、表面改性靶材、光罩层靶材、装饰层靶材、电极靶材、封装靶材、其他靶材。

溅射靶材应用广泛,主要应用于电子及信息产业,如集成电路、、、激光存储器、电子控制器件等;亦可应用于领域;还可以应用于、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。

一、行业发展现状

近年来我国对溅射靶材行业重视程度不断提升,各类政策出台推动行业积极发展。例如2019年国务院发布的《“十四五”规划和2035年远景目标刚要》,提出集成电路攻关方面,以重点装备和高纯靶材等关键材料为研发方向。2021 年 3 月,财政部、海关总署等联合发布《关于支持集成电路产业和软件产业发展进口税收政策的通知》,明确对于国内靶材企业进口国内不能生产、性能不满足需求的自用生产性原材料及消耗品免征进口关税。在国内良好的政策环境和各细分市场广阔的市场空间下,国内溅射靶材企业市占率提升空间大,国产替代机会逐步开启。

根据观研报告网发布的《中国溅射靶材行业发展现状调研与投资趋势预测报告(2022-2029年)》显示,随着政策利好、以及在技术创新推动下芯片、光伏高新技术产业需求不断释放,我国溅射靶材行业规模不断扩大。数据显示,2021年我国溅射靶材市场规模达375.8亿元,同比增长9.7%。预计2022年我国溅射靶材市场规模将达到410亿元。

随着政策利好、以及在技术创新推动下芯片、光伏高新技术产业需求不断释放,我国溅射靶材行业规模不断扩大。数据显示,2021年我国溅射靶材市场规模达375.8亿元,同比增长9.7%。预计2022年我国溅射靶材市场规模将达到410亿元。

数据来源:观研天下整理

其中高性能溅射靶材市场在国家战略政策支持以及下游众多应用领域需求的支撑下,行业技术不断突破,产品性能不断提升,带动市场规模不断扩大。数据显示,2021年我国高性能溅射靶材市场规模由2016年的98.9亿元增长至241.8亿元,预计2022年市场规模将达288.1亿元。

其中高性能溅射靶材市场在国家战略政策支持以及下游众多应用领域需求的支撑下,行业技术不断突破,产品性能不断提升,带动市场规模不断扩大。数据显示,2021年我国高性能溅射靶材市场规模由2016年的98.9亿元增长至241.8亿元,预计2022年市场规模将达288.1亿元。

数据来源:观研天下整理

ITO靶材市场容量也在不断扩张。有数据显示,2019-2021年,我国ITO靶材市场容量从639吨增长到1002吨,年复合增长率为25.22%。预计2022年我国ITO靶材市场容量能达到1067吨。

ITO靶材市场容量也在不断扩张。有数据显示,2019-2021年,我国ITO靶材市场容量从639吨增长到1002吨,年复合增长率为25.22%。预计2022年我国ITO靶材市场容量能达到1067吨。

数据来源:观研天下整理

二、市场下游市场情况

溅射靶材下游应用领域广泛,在平面显示、信息存储、光伏电池、半导体芯片等行业被广泛应用。其中平面显示市场中,应用最为广泛,占比34%;其次为、信息存储、光伏电池,占比分别为29%、21%。

溅射靶材下游应用领域广泛,在平面显示、信息存储、光伏电池、半导体芯片等行业被广泛应用。其中平面显示市场中,应用最为广泛,占比34%;其次为、信息存储、光伏电池,占比分别为29%、21%。

数据来源:观研天下整理

1、平板显示器

溅射靶材能够提升平板显示器中大面积膜层的均匀性,提高生产率并降低成本。2016-2020 年我国大陆平板显示产能从 29%提升到 51%,居全球首位,预计 2022 年将达到 56%。从产品类别来看,2020 年平板显示产品中 OLED 占比约为 29.3%,预计 2022年将提升到 33.9%。目前国内平板显示产能全球领先,预计随着 OLED 技术不断成熟和产能逐步释放,预计未来将持续渗透,驱动溅射靶材市场空间增长。

2、集成电路

溅射靶材是制备集成电路的核心材料之一。有相关资料显示,溅射靶材在晶圆制造材料和封装测试材料中,市场分别占比为 2.6%和 2.7%。

2021年是中国“十四五”开局之年,在国内宏观经济运行良好的驱动下,国内集成电路产业继续保持快速、平稳增长态势,2021年中国集成电路产业首次突破万亿元。中国半导体行业协会统计,2021年中国集成电路产业销售额为10458.3亿元,同比增长18.2%。

2021年是中国“十四五”开局之年,在国内宏观经济运行良好的驱动下,国内集成电路产业继续保持快速、平稳增长态势,2021年中国集成电路产业首次突破万亿元。中国半导体行业协会统计,2021年中国集成电路产业销售额为10458.3亿元,同比增长18.2%。

资料来源:中国半导体行业协会,观研天下数据中心整理

随着下游市场不断发展,带动国内集成电路材料需求持续提升。有数据显示,2021年国内半导体材料市场规模达到650亿元,预计2022年将增长至665亿元。而随着国内半导体材料市场的进一步增长,溅射靶材需求将随之继续拉升,维系成长。

3、太阳能光伏

溅射靶材可用于薄膜太阳能电池的制备中。据了解,和传统的晶体硅太阳能电池相比,薄膜太阳能电池大大减少了材料用量,从而大幅降低制造成本和产品价格,同时,薄膜太阳能电池还具有制造温度低、应用范围大等特点,从市场前景来看,薄膜太阳能电池在光伏建筑一体化、大规模低成本发电站建设等方面比传统的晶体硅太阳能电池具有更加广阔的市场空间。由此随着碳中和、碳达峰目标的提出,光伏装机量提升确定性强,光伏用溅射靶材市场将稳步增长。

近年来随着国内光伏产业发展迅速,光伏电池规模快速增长。数据显示,2021年我国光伏发电累计装机容量为30656万千瓦,较上年同比增长21%,新增装机容量为5493万千瓦,较上年同比增长14%;2022年1-6月我国光伏发电累计装机容量为33677万千瓦,较上年同比增长25.8%,新增装机容量为3088万千瓦,较上年同比增长137.4%。

近年来随着国内光伏产业发展迅速,光伏电池规模快速增长。数据显示,2021年我国光伏发电累计装机容量为30656万千瓦,较上年同比增长21%,新增装机容量为5493万千瓦,较上年同比增长14%;2022年1-6月我国光伏发电累计装机容量为33677万千瓦,较上年同比增长25.8%,新增装机容量为3088万千瓦,较上年同比增长137.4%。

数据来源:观研天下数据中心整理

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数据来源:观研天下数据中心整理(WW)

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