光刻机行业：全球市场规模增速显著下降 KrF和i-Line为市场主流产品 合计销量占比约71.5%

光刻机又名掩模对准曝光机，是一种用于制造‌半导体芯片的关键设备，通过类似照片冲印的技术，将掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到‌硅片上。‌其广泛应用于半导体芯片的生产，是制造高端芯片不可或缺的设备，技术水平和制造精度直接影响到芯片的性能和制程水平。

从产业链来看，光刻机上游主要可分为材料及设备、组件，其中材料及设备包括光刻胶、电子特气、涂胶显影设备等；组件包括激光器、掩膜板、掩膜台、遮光器、能量探测器、能量控制器等。中游为光刻机的生产；下游为芯片制造、芯片封装、功率器件制造和LED、MEMS制造等应用领域。

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光刻机是半导体设备的一种，主要用于半导体芯片的制造过程中，在光刻机在半导体设备占比达到24%。

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从市场规模来看，2020年到2023年全球光刻机市场规模持续增长，到2023年全球光刻机市场规模达到了271.3亿美元，同比增长5.0%。

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从产品结构来看，全球光刻机市场销量占比最高的为KrF，占比为37.9%；其次为i-Line，占比为33.6%；第三为ArFi，占比为15.4%。整体来看，全球光刻机市场销量主要还是以低端产品(KrF、i-Line)为主，合计占比达到了71.5%。

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从企业销量来看，在2023年全球光刻机销量前三的企业分别为ASML、Canon、Nikon，销量分别为449台、187台和45台，其中在ASML在ArFi、ArF、KrF销量分别为125台、32台、184台。

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